Déposition de couche mince a-Si:H par procédé PECVD: Simulation par la méthode de Monte Carlo, Calcul analytique des probabilités de la réactivité
65.90 EUR
Ein Leitfaden zur a‑Si:H‑Dünnschichtdeposition per PECVD, der Monte‑Carlo‑Simulationen mit analytischer Berechnung von Reaktionswahrscheinlichkeiten verbindet und praxisnahe Optimierungstipps bietet.
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Déposition de couche mince a-Si:H par procédé PECVD, Schulbücher
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26-04-2026 21:30:51
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