Dopage au bore du silicium amorphe hydrogène déposé par pulvérisation: Dépôt des couches minces de silicium amorphe hydrogéné dopé au bore par la technique pulvérisation DC magnétron | DealShopping Deutschland
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Dopage au bore du silicium amorphe hydrogène déposé par pulvérisation: Dépôt des couches minces de silicium amorphe hydrogéné dopé au bore par la technique pulvérisation DC magnétron

59.90 EUR 52.46 EUR 12% Off

Dieses Fachbuch erläutert die Bor‑dopeung amorphen Siliziumhydrogenschichten, beschreibt die DC-Magnetron-Pulverisationsmethode, analysiert Struktur und Leitfähigkeit und zeigt Einsatzmöglichkeiten in Halbleiterbauelementen.

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