Dornfeld, David A.: Integrated Modeling of Chemical Mechanical Planarization for Sub-Micron IC Fabrication
160.49 EUR
Ein umfassendes Handbuch, das die physikalischen Grundlagen der chemisch-mechanischen Planarisierung von Nanopartikeln bis zur Wafer‑Ebene beleuchtet und Ingenieuren praxisnahe Modellierungsstrategien für präzise IC‑Herstellung vermittelt.
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Integrated Modeling of Chemical Mechanical Planarization for Sub-Micron IC Fabrication
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Integrated Modeling of Chemical Mechanical Planarization for Sub-Micron IC Fabrication, Fachbücher von David A. Dornfeld, Jianfeng Luo
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21-05-2026 07:18:34
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