Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films: Growth and Characterization
Entdecke die Kunst der Plasma‑unterstützten Atomschichtabscheidung, um III‑Nitride-Filme zu formen; das Buch beleuchtet innovative Prozessparameter, strukturelle Analysen und Anwendungen in modernen Halbleitertechnologien.
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Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films: Growth and Characterization
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19-05-2026 14:32:00
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Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films, Fachbücher
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18-05-2026 21:48:45
